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| TQA | Tecnologïa Química Argentina |
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FotoResist MEWHELL II |
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| Características | Una solución para la fabricación de prototipos y pequeñas producciones de circuitos impresos, matrices para | |
| tampografia, y pequeñas pieza metalicas. | Productos Auxiliares | |
| Mewhell II es una solución de modernos polímeros fotosensibles a la radiación ultravioleta | ||
| Produce imágenes negativas a partir de un positivo e imágenes positivas a partir de un negativo | ||
| Resistente a los baños ácidos de mordentado de metales | Información Técnica | |
| Fácil revelado | ||
| Gran contraste | ||
| Posee buena resistencia al frote | Hoja de Seguridad | |
| Excelente adherencia sobre los metales. | ||
| Beneficios | Mínimo desperdicio con mejor costo | Ventas |
| Sin sistemas especiales de aplicación | ||
| Gran rendimiento | ||
| Apto para todo tipo de grabado ácido de metales | Contactarse | |
| Se aplica con pincel, spray (pistola de baja presión, aerógrafo), centrífuga o lienzo | ||
| Larga vida útil, sin vencimiento | ||
| Se trabaja con luz ambiente normal de lámpara incandescente | ||
| Reacciona con luz ultravioleta solamente, incluyendo las lámparas solares |
   
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| Aplicaciones | Confección de circuitos impresos mediante el método sustractivo | |
| Producción de matrices para máquinas tampográficas, off-set | ||
| Todo tipo de grabado de metales. | ||
| Copyright © 2002 Tecnologia Química Argentina | ||
| Última Modificación Miércoles 02 de Abril de 2008 | ||